Učinak magnetrona bit će znatno smanjen ako je ciljni materijal magnetski jer su linije magnetskog polja zaštićene ciljnim materijalom i teško im je proći kroz njega da bi formirale magnetsko polje iznad površine ciljnog materijala. Kao rezultat toga, kada raspršivanjem magnetskih materijala, magnetsko polje mete magnetrona mora biti jače s jedne strane, a materijal mete mora biti tanji s druge strane, kako bi omogućio da linije magnetskog polja prolaze kroz njega i proizvedu magnetronski učinak iznad površine mete.
Prema izvoru napajanja koji se koristi, oprema za magnetronsko raspršivanje može se općenito podijeliti na DC raspršivanje i radiofrekventno raspršivanje. Istosmjerni napon se osigurava između anodne podloge i katodne mete tijekom DC magnetronskog raspršivanja. Pod utjecajem električnog polja, kation bombardira metu, a njegova brzina prskanja je često prilično visoka. Međutim, raspršivanje istosmjernom strujom često se koristi samo za metalne mete jer kod izolatorskih meta dolazi do takozvanog "trovanja mete". pozitivnim česticama koje se nakupljaju na ciljnoj površini, što rezultira smanjenom brzinom raspršivanja. Princip magnetronskog raspršivanja je sljedeći: dok se elektroni ubrzavaju i lete prema supstratu pod utjecajem električnog polja, sudaraju se s atomima argona, ionizirajući ogroman broj atoma i elektrona argona dok to čine. Pod utjecajem električnog polja, ioni argona ubrzavaju bombardiranje mete, prskajući mnoge ciljne atome. Neutralni ciljni atomi (ili molekule) tada se talože na podlogu kako bi formirali film. Dok se ubrzavaju i lete prema podlozi, sekundarni elektroni su ograničeni u području plazme blizu ciljne površine Lorenovom magnetskom silom magnetskog polja. .
Ovo područje ima vrlo visoku gustoću plazme. Magnetsko polje je posvuda oko sekundarnih elektrona. Površina mete rotira u krug. Put gibanja elektrona je vrlo dug. Kontinuirano se sudara s atomima argona dok se kreće, što uzrokuje ionizaciju velikog broja iona argona i bombardiranje ciljanog materijala. Energija elektrona postojano opada nakon nekoliko susreta, oslobađajući ih ograničenja magnetskih linija sile. na kraju se taloži na podlogu nakon uklanjanja s mete.
